Jeśli próżniowy laser ultrafioletowy można zogniskować na małej plamce wiązki, można go użyć do badania struktury materiałów mezoskopowych i tworzenia nanoprzedmiotów z lepszą precyzją.
Aby osiągnąć ten cel, chińscy naukowcy wynaleźli 177-nanometrowy system laserowy VUV, który może osiągnąć sub-mikronowe ogniskowanie przy długich ogniskowych.
Wynik badania opublikowany w" Light Science& Aplikacje" (LightScience& Applications) pokazuje, że naukowcy opracowali system fotoelektrycznego mikroskopu emisyjnego ze skanowaniem laserowym 177nmVUV wykorzystujący płytkę z paskiem wolną od aberracji sferycznej, która ma długą ogniskową (——45 mm) Na dnie znajduje się ognisko< ; 1μm.
W porównaniu ze źródłem laserowym DUV z rozdzielczością przestrzenną stosowaną obecnie w ARPES, źródło laserowe 177nmVUV może pomóc pomiarowi ARPES w pokryciu większej przestrzeni pędu i ma lepszą rozdzielczość energii.
System laserowy VUV ma bardzo długą ogniskową (-45 mm), sub-mikronową rozdzielczość przestrzenną (-760 nm), ultra-wysoką rozdzielczość energetyczną (-0,3 meV) i bardzo wysoką jasność (-355 MWm-2). Może być bezpośrednio stosowany w przyrządach do badań naukowych, takich jak fotoelektryczny mikroskop emisyjny elektronowy (PEEM), spektrometr fotoelektronów z rozdzielczością kątową (ARPES), spektrometr Ramana z laserem głębokiego ultrafioletu.
Obecnie system ujawnił drobne charakterystyki pasm energii różnych nowych materiałów kwantowych, takich jak quasi-jednowymiarowy topologiczny nadprzewodnik TaSe3, magnetyczne izolatory topologiczne (MnBi2Te4) (Bi2Te3) rodzina m i tak dalej.